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          科研人員提出孔徑小于10納米的固態納米孔制備新方法

            

            近日,中國科學院近代物理研究所材料研究中心科研人員與俄羅斯杜布納聯合核子研究所合作,研發了一種孔徑小于10納米的固態納米孔制備新技術。相關成果發表在《納米快報》(Nano Letters)上。 

            高質量固態納米孔的制備是DNA測序、納流器件以及納濾膜等應用的關鍵技術。當前,在無機薄膜材料中制備固態納米孔的主流方法是聚焦離子/電子束刻蝕,該方法在制備過程中需實時反饋,更適合于單個納米孔的制備。因此,探索孔徑可調、孔密度可控和無需實時反饋的固態納米孔快速制備技術具有重要的科學意義。 

            科研人員基于蘭州重離子研究裝置(HIRFL),利用快重離子作用于WO3納米片材料,成功實現了直接“打孔”的制備方法。同時,科研人員利用分子動力學模擬對物理機理進行了解釋,發現重離子在材料中的沉積能量會引起材料局域瞬時熔融噴發,熔融相的粘度和表面張力大小是決定納米孔形成的關鍵因素。 

            該方法通過改變重離子的電子能損調控孔徑大小,通過改變重離子輻照注量調節孔密度,整個制孔過程一步完成,不涉及化學蝕刻,具有一定的普適性和應用潛力。 

            研究工作為重離子束應用于固態納米孔制備開辟了新途徑,也為解釋重離子在固體材料中潛徑跡形成的微觀機理提供了重要的理論依據。 

            該工作得到了國家重點研發計劃、國家自然科學基金以及中國科學院青年創新促進會等項目的資助。 

            文章鏈接:https://doi.org/10.1021/acs.nanolett.3c00884 

             

            圖:快重離子在WO3納米片中直接形成納米孔示例 /徐麗君 翟鵬飛 

              

              

                                                  (材料輻照效應室 供稿) 

              

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